ASCII.jp：半導体プロセスまるわかり トランジスタの配線と形成 (2/3)
SOIウェーハ | セーレンKST株式会社
半導体集積回路のシリコンに代わる 大面積ゲルマニウムウェハー作製技術の開発に成功
テスト成膜サービス | 株式会社菅製作所
アイテス ウェハー成膜加工のご案内(内容を選ぶ) | 株式会社アイテス
熱酸化Sio2シリコンウェハー製 - Sil'Tronix Silicon Technologies - 6 inch (150 mm) / 2 inch (50 mm)
スライド 1
膜厚測定アプリケーション：SiO2膜｜テクノシナジー
5 シリコンの熱酸化
シリコンウエハー販売｜キャノシス株式会社
シリコンウエハ業界の世界市場シェアの分析 | ディールラボ
成膜工程 | 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
SOIウェハのカスタマイズ | 株式会社エレクトロニクスエンドマテリアルズコーポレーション
酸化膜測定（SiO2） - ～膜厚測定、透過率測定ならあすみ技研～
シリコンウエハー販売｜キャノシス株式会社
膜厚測定アプリケーション：SiO2膜｜テクノシナジー
シリコンウェハ表面SiO2 薄膜の分析(FTIR) : 株式会社島津製作所
オーシャンインサイト :: 製品 :: 薄膜リファレンスウェハ
半導体製造の８つの工程(2) ウェハ表面を覆う保護膜を作る「酸化工程」 | TECH+（テックプラス）
ASCII.jp：半導体プロセスまるわかり インテルが使おうとしないSOI (2/3)
SOIウェハ作成プロセス | 株式会社エレクトロニクスエンドマテリアルズコーポレーション
SOIウェハのカスタマイズ | 株式会社エレクトロニクスエンドマテリアルズコーポレーション
SOIウェハのカスタマイズ | 株式会社エレクトロニクスエンドマテリアルズコーポレーション
恋する半導体（セミコイ）「熱酸化膜編」 | 株式会社アイテス
